글로벌 마켓에서의 경쟁이 치열해지는데, 국내 기업의 발목을 잡는 기술 유출 문제가 또 다시 적발됐습니다.

 

삼성전자가 수조 원을 들여 독자 개발한 반도체 공정기술을 빼돌려 중국 지방정부와 합작해 반도체 회사를 세운 전직 임직원 두 명이 구속 송치됐습니다.

 

 

 

중국 반도체 업계 '메카'가 목표라는 청두가오전.

 

삼성전자에서 상무, 하이닉스반도체 부사장까지 지낸 최 모 씨가 4년 전, 중국 지방정부와 합작해 세운 회삽니다.

 

 

 

최 씨는 회사를 설립하면서 삼성전자 수석연구원을 지낸 오 모 씨 등 기술인력을 줄지어 영입했습니다.

 

이 과정에서 삼성전자의 반도체 공정기술이 유출된 정황을 경찰이 포착했고, 공정설계실장이었던 오 씨의 집에서 반도체 제조 공정도가 발견됐습니다.

 

 

 

반도체 공정의 순서부터 제조 과정의 핵심 조건을 정리한 PRP 기술, 품질 향상을 위한 규격을 의미하는 MTS 기술 등이 유출된 것으로 파악됐습니다.

 

 

 

[이종환/상명대 시스템반도체공학과 교수 : "반도체에서는 공정 조건별로 수많은 평가를 통해서 공정 조건이 정해지거든요. 예를 들어서 5년 만에 공정 조건을 잡았는데 (유출 기술을 이용하면) 몇 개월 내에 바로 실행을 할 수 있다는 거죠."]

 

 

 

이런 방식으로 4~5년이 걸린다는 시범 웨이퍼 생산을 1년 3개월 만에 성공하기도 했습니다.

 

 

 

경찰은 반도체 핵심 공정이 사실상 통째 넘어간 것으로 보고 있습니다.

 

 

 

[조광현/서울경찰청 안보수사지원과장 : "공정 개발 비용은 약 4.3조 원에 이르며 경제 효과 등을 감안할 때 실제 피해 금액은 가늠하기 어려운 수준입니다."]

 

 

 

[조광현/서울경찰청 안보수사지원과장 : "공정 개발 비용은 약 4.3조 원에 이르며 경제 효과 등을 감안할 때 실제 피해 금액은 가늠하기 어려운 수준입니다."]

 

 

 

경찰은 최 씨와 오 씨를 검찰에 구속 송치하고 이 업체로 이직한 30여 명의 다른 임직원에 대해서도 수사하고 있습니다.

 

경찰은 또 중국업체 측이 기술 인력을 빼내가기 위해 연봉을 몇 배씩 주겠다고 해놓고 2~3년 뒤 해고하는 경우가 많다며 기술 인력들의 주의를 당부했습니다.