글로벌 마켓에서의 경쟁이 치열해지는데, 국내 기업의 발목을 잡는 기술 유출 문제가 또 다시 적발됐습니다.

 

삼성전자가 수조 원을 들여 독자 개발한 반도체 공정기술을 빼돌려 중국 지방정부와 합작해 반도체 회사를 세운 전직 임직원 두 명이 구속 송치됐습니다.

 

 

 

중국 반도체 업계 '메카'가 목표라는 청두가오전.

 

삼성전자에서 상무, 하이닉스반도체 부사장까지 지낸 최 모 씨가 4년 전, 중국 지방정부와 합작해 세운 회삽니다.

 

 

 

최 씨는 회사를 설립하면서 삼성전자 수석연구원을 지낸 오 모 씨 등 기술인력을 줄지어 영입했습니다.

 

이 과정에서 삼성전자의 반도체 공정기술이 유출된 정황을 경찰이 포착했고, 공정설계실장이었던 오 씨의 집에서 반도체 제조 공정도가 발견됐습니다.

 

 

 

반도체 공정의 순서부터 제조 과정의 핵심 조건을 정리한 PRP 기술, 품질 향상을 위한 규격을 의미하는 MTS 기술 등이 유출된 것으로 파악됐습니다.

 

 

 

반도체 공정의 순서부터 제조 과정의 핵심 조건을 정리한 PRP 기술, 품질 향상을 위한 규격을 의미하는 MTS 기술 등이 유출된 것으로 파악됐습니다.

 

 

 

[이종환/상명대 시스템반도체공학과 교수 : "반도체에서는 공정 조건별로 수많은 평가를 통해서 공정 조건이 정해지거든요. 예를 들어서 5년 만에 공정 조건을 잡았는데 (유출 기술을 이용하면) 몇 개월 내에 바로 실행을 할 수 있다는 거죠."]

 

 

 

이런 방식으로 4~5년이 걸린다는 시범 웨이퍼 생산을 1년 3개월 만에 성공하기도 했습니다.

 

 

 

경찰은 반도체 핵심 공정이 사실상 통째 넘어간 것으로 보고 있습니다.

 

 

 

[조광현/서울경찰청 안보수사지원과장 : "공정 개발 비용은 약 4.3조 원에 이르며 경제 효과 등을 감안할 때 실제 피해 금액은 가늠하기 어려운 수준입니다."]

 

 

 

경찰은 최 씨와 오 씨를 검찰에 구속 송치하고 이 업체로 이직한 30여 명의 다른 임직원에 대해서도 수사하고 있습니다.

 

경찰은 또 중국업체 측이 기술 인력을 빼내가기 위해 연봉을 몇 배씩 주겠다고 해놓고 2~3년 뒤 해고하는 경우가 많다며 기술 인력들의 주의를 당부했습니다.